捷报来了!光刻机我们有0到1的突破了!不过不要太激动不是取代ASML的极紫外光光刻机的,现在这个羲之电子束光刻机,只适用在 量子芯片、光子芯片和第三代半导体的实验室或者小批量试制,因为现在的速度还达不到产业化应用方面,没办法取代ASML的EUV光刻机,不过这才开始,后面迭代后就可能解决产业化应用,特别是后面多束电子束版本出来,就可提高速度,达到产业化应用需求了。 只是,这个没有在哈工大,没有北京,也没有在上海,而是在杭州这真是个意外之喜。 这个最主要是缩短了研发的修正时间和研发成本。 不过其他路线的光刻机也突破在即。 ASML的金饭碗眼看就要破了,台积电的衰落也快到了。 堡垒一个一个突破,最后脱胎换骨后的中国科技将无人可当。
电子束光刻机的事一出来,我就知道,出口管制完蛋了! 不是因为0.6nm精度,
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