日本2nm芯片成功试产，中国“极紫外专项”进展如何？我国“极紫外专项”源于国家
光刻胶材料：中科院化学所、北京科华微电子等联合承担的“极紫外光刻胶材料与实验室检测技术研究”项目，完成了EUV光刻胶关键材料设计、制备及工艺研发。集中资源搞大项目、啃硬骨头，一直是我们举国体制的最大优势，相信中国2...
美国这些年一直以为，只要把顶尖的光刻机技术死死捏在自己手里，尤其是极紫外设备不给
只要把顶尖的光刻机技术死死捏在自己手里，尤其是极紫外设备不给中国，...中国并没有把主要精力放在正面突破高端光刻机上，而是选择了另外一条路线，转而大量采购并消化技术成熟的深紫外光刻机，主攻28纳米及以上成熟制程芯片。...