我国芯片领域又有新突破啦!近日,北大彭海琳教授团队有大成果。光刻技术是芯片制程微缩的核心驱动力,而“显影”是光刻核心步骤,光刻胶在显影液中的运动影响芯片良率。可长期以来,光刻胶在显影液中的微观行为是“黑匣子”,工艺优化只能反复试错,制约7纳米及以下先进制程良率。 为解决难题,团队首次把冷冻电子断层扫描技术引入半导体领域,合成出分辨率优于5纳米的微观三维“全景照片”,克服传统技术痛点。这一突破能推动光刻等关键工艺的缺陷控制与良率提升,期待我国芯片产业借此更进一步!



我国芯片领域又有新突破啦!近日,北大彭海琳教授团队有大成果。光刻技术是芯片制程微缩的核心驱动力,而“显影”是光刻核心步骤,光刻胶在显影液中的运动影响芯片良率。可长期以来,光刻胶在显影液中的微观行为是“黑匣子”,工艺优化只能反复试错,制约7纳米及以下先进制程良率。 为解决难题,团队首次把冷冻电子断层扫描技术引入半导体领域,合成出分辨率优于5纳米的微观三维“全景照片”,克服传统技术痛点。这一突破能推动光刻等关键工艺的缺陷控制与良率提升,期待我国芯片产业借此更进一步!



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