深圳暴雨光刻机国产化产业链分类整理:
（微电子若上市，不管借壳还是Ipo，都将对整个产业链有益！国产光刻机未来必然会取代国外的垄断地位，提前整理资料留存！）
1. 光学系统
1.1 光学元件：茂莱光学、腾景科技、炬光科技、晶方科技、苏大维格
1.2 光学镜头：奥普光电、福光股份、波长光电
1.3 透镜系统：赛微电子
1.4 光学制版：京华激光
1.5 光学系统清洗：富乐德、蓝英装备
2. 结构及设备
2.1 结构零部件：富创精密
2.2 光刻净化设备：美埃科技
2.3 显影涂胶设备：芯源微、盛美上海
2.4 电路量测设备：精测电子
2.5 整机：张江高科
2.6 接近式光刻机：大族激光
3. 光源与成像
3.1 光源：福晶科技
3.2 成像光刻：芯碁微装
4. 材料与化学品
4.1 光刻胶：广信材料、奥莱德、南大光电、上海新阳、彤程新材、瑞联新材、鼎龙股份、容大感光、飞凯材料、晶瑞电材、华懋科技、普利特、高盟新材、雅克科技
4.2 引发剂：强力新材、扬帆新材、久日新材
4.3 显影和剥离：格林达
4.4 剥离剂及刻蚀液：盛剑环境、怡达股份
4.5 湿电子化学品：江化微、莱伯泰科
4.6 光刻胶溶剂：百川股份
4.7 除胶剂：安集科技
4.8 其他原材料：康鹏科技、常青科技、同益股份、万润股份
5. 特种材料与气体
5.1 光刻气产品：华特气体、凯美特气
5.2 钨合金产品：安泰科技
5.3 纳米颜料分散液：世名科技
5.4 感光剂：康达新材
5.5 颜料：欢乐家
5.6 残胶收集：捷捷微电
5.7 除胶设备：安达智能
6. 其他
6.1 光触媒：亚威股份
6.2 晶片小型化：惠伦晶体
6.3 光掩膜版：冠石科技
