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公司的CCP电容性高能等离子体刻蚀机和ICP电感性低能等离子体刻蚀机，可覆盖国内95%以上的刻蚀应用需求。而在国际先进的芯片制造客户生产线上，已有近600台中微的双反应台刻蚀设备，其中一半用于5纳米及更先进制程。事实上，...