真的造出来了！中国光刻机历史性突破，荷兰ASML担心的事情出现了 回想起来，中国在光刻机上的起步可不算晚，早从上世纪60年代就开始摸索，那时候国内工厂拼凑出简单设备，主要对付基础电路。 到了70年代，半自动的机型也冒头了，能帮着造早期的集成电路，就是技术太糙，调机器全靠手，精度差得远，跟当时国际上的水平比，确实落后一大截。 可谁能想到，当年这不起眼的起步，愣是成了后来突破的根，中间有段时间确实难，80年代中科院也搞过研究，可那机器精度就停在微米级，跟人家的纳米级根本没法比，后来市场化浪潮里，好多研发因为花钱多、见效慢就停了。 直到2002年上海微电子成立，才算把这根线续上了，他们一门心思啃DUV光刻机这块硬骨头，这一啃就是二十年，到2023年终于能稳定出货90纳米的设备，今年更厉害，28纳米的机器都送进工厂试产了。 可能有人说28纳米是人家十年前的技术，可别忘了，这是在西方层层封锁下干出来的，太难得了。 现在的突破可不是单点冒尖，是一整套体系都在往上走。 上海微电子那28纳米的机器，国产化率都到80%了，成本比进口的便宜七成，这意味着咱们不再像以前那样，核心零件全靠买，人家一卡脖子就没办法。 以前最头疼的光源，得靠美国Cymer，现在科益虹源造的激光器能直接用，能量稳得很，寿命还长，比ASML的还省15%的电。 还有那最讲究精度的镜头，国望光学也能造了，面形精度比头发丝的万分之一还细，这放在以前想都不敢想。 更让人提气的是，咱们不光盯着一条路走。 ASML垄断的EUV光刻机确实先进，可咱们用现有的DUV设备也走出了自己的路，中芯国际就是个例子，用193纳米的DUV机器反复曝光三十多次，硬是把芯片线宽压到7纳米级别，造出了麒麟9000S那样的手机芯片。这就好比没有顶级画笔，用普通画笔反复精修，照样画出好画。 还有杭州璞璘搞的纳米压印技术，不用复杂的光学系统，跟盖章似的就把图案印在硅片上，成本降六成，能耗才是EUV的十分之一，长江存储都用它造存储芯片了，堆叠层数还涨了不少。 深圳还有家叫稳顶聚芯的小公司，成立才两年，三十多个人就造出了能用于汽车芯片的光刻机，专门盯着市场需求量大的成熟工艺，这路子走得特别务实。 这时候再看ASML，他们是真该担心了，以前ASML靠整合全球五千多家供应商的零件，才攒出独一份的EUV光刻机，觉得咱们根本没法复制这套体系。 可现在咱们从光源、镜头到工作台，一个个核心部件都在突破，28纳米的设备已经能满足全球八成的芯片需求，汽车芯片、手机里的电源管理芯片都能用它造。 ASML以前卖设备得等一年，还漫天要价，咱们的机器三个月就能交货，价格才是他们的三分之一，国内晶圆厂肯定愿意用。 今年上海微电子都拿到五十多台订单了，虽说大多是国内厂商试用，但这就是开始，等机器稳定运行一段时间，国际市场也会动心。 其实ASML早就有苗头了，之前在北京设维修中心，说是提高响应速度，说白了就是怕失去中国市场。 可美国还在加码封锁，连备件和维修服务都卡，这反而倒逼咱们把供应链做扎实了。 奥普光电的工作台定位误差能小于1.5纳米，富创精密成了7纳米设备真空腔体的唯一国产供应商，这些小零件的突破，比整机突破更关键，因为这意味着咱们的产业链真正立住了。 有人可能会说，咱们离3纳米、2纳米的EUV还有距离，这话没错，但咱们走的路特别稳。先把28纳米这样的成熟制程拿下来，既能满足大部分市场需求，又能赚着钱、积累经验，再去攻更先进的技术。 清华大学还在搞SSMB新光源技术，用加速器造极紫外光，说不定能绕开ASML的老路，这才是最让ASML揪心的——咱们不光在追，还在找新赛道。 想想当年70年代靠手工调整机器，再看现在能自主造出自带"中国芯"的光刻机，这不是奇迹，是咱们不服输的劲儿撑下来的。 国家大基金三期投了九百多亿，地方还补了两百多亿，可光有钱不行，得有愿意沉下心干十几年的人。 ASML的工程师能听声音判断设备问题，那是十几年的经验，咱们现在也在攒这种本事，ASML中国中心那五十个工程师，将来都是咱们的宝贝。 芯片这东西太重要了，小到手机、身份证，大到高铁、飞机，都离不开，以前每年花三千多亿美元进口，比买石油还贵，太被动了。现在光刻机突破了，国内芯片产业就能活起来，汽车芯片、工业芯片不用再看别人脸色，这才是真的安全。 所以说，这次突破不是偶然，是从60年代就开始的积累，是无数企业和科研人员熬出来的结果。 ASML担心的不只是失去一块市场，更是担心他们维持几十年的垄断地位要被打破。 咱们不用急着追顶尖，就按现在的节奏走，稳扎稳打，用不了多久，提起光刻机，除了ASML，肯定还有中国的名字。这路虽然难，但每一步都走得特别值，因为这是咱们自己的底气。
