中国光刻胶技术获重大突破7纳米制程良品率提升显著 我国在光刻胶领域取得重大突破

俗了余生 2025-10-27 07:13:00

中国光刻胶技术获重大突破 7纳米制程良品率提升显著 我国在光刻胶领域取得重大突破,研发的新型光刻胶可显著提升7纳米及以下先进制程的良品率。这一成果打破了国外技术垄断,为中国半导体产业发展提供关键支撑。 光刻胶是芯片制造的关键材料,长期以来被日本、美国企业垄断。此次突破使我国成为全球少数掌握先进光刻胶技术的国家之一,对半导体产业链自主可控具有重要意义。

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