中芯国际正测试一台采用浸没式技术的 28 纳米中国国产深紫外光刻机（DUV），并将利用“多重曝光技术”生产 7 纳米芯片，也可能以较低的良率生产 5 纳米芯片，但无法进一步推进到更先进制程
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中芯国际正测试一台采用浸没式技术的28纳米中国国产深紫外光刻机（DUV），并
挪威的森
2025-09-18 23:19:58
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