重大突破，中国芯片终于初见曙光！
浙江大学立大功了！众所周知，要制造7nm以下芯片必须用EUV光刻机，而 EUV光刻机全球只有荷兰 ASML一家能制造，但美国禁止向中国销售。近日，浙江大学另辟蹊径，采用与 EUV 完全不同的技术，开发出电子束光刻机。该技术用电子束直接在硅片上进行光刻，无需光刻技术必须使用的光掩膜版，且精度低于1 纳米，超过目前全球尖端的 2 纳米水平。这台 EBL 电子束光刻机取名“羲之”，雕刻精度可达 0.6 纳米、线宽 8 纳米，接近世界顶级水平。目前，样机已进入调试阶段，虽然这种光刻机无法大规模生产芯片，但投产后可制作量子芯片特种芯片。美国越封锁，我们越进步。中国在亟待解决的芯片技术领域，终于取得突破，也再次证明了中国的崛起势不可当。
