中国永远造不出光刻机！9年前年中科大副院长朱士尧认为美国造不出来光刻机，中国更难

中国永远造不出光刻机！9年前年中科大副院长朱士尧认为美国造不出来光刻机，中国更难，而之后4年前中国工程院院士吴汉明也说造光刻机不现实，为啥这些学者对自己这么没信心？我们是真造不出吗？ 光刻机，大家都说它是半导体行业里最闪耀的那颗星，一直以来，荷兰的ASML公司都牢牢控制着这个市场。有人以前就说过，中国自己做不出来，这样的话到处都是。 大概九年前，中科大的一个副院长朱士尧直接讲，就连美国都做不出顶尖的光刻机，中国就更难了。又过了四年，中国工程院的院士吴汉明也觉得这事儿不太可能。但这些看衰的声音，都没看到中国科技那股子不服输的劲儿。想想以前的“两弹一星”，那可是在最困难的时候搞出来的。现在，咱们的光刻机也开始转运了。 上海微电子搞出来的SSA800光刻机，虽然精度是90nm，但这可是咱们自己完全能掌握的，是个大突破。中科院更厉害，他们用193nm的涡旋光束激光技术，把光刻精度提到了5nm，躲开了ASML的专利陷阱。荷兰一看，赶紧又加强了出口限制，但咱们中国可不怕，国家大基金三期直接投了3440亿，华为也突破了EUV光源技术，新凯来公司用DUV多重曝光技术量产了5nm芯片。咱们不光解决了技术难题，还建起了自己的产业链，从材料到设备，一步步替换掉进口的。 这场光刻机的战斗，就是中国科技自强的一个小例子。不是我们做不到，而是我们有自己的路要走。