咱们的极紫外光刻胶，历尽艰难终于給干成了。不仅可以造7nm以下的芯片，还绕开了所有的国外专利，性能甚至比国际巨头的产品更能打。中国半导体企业有了自己翻盘的底气。要知道光刻胶这个东西，是非常的金贵，大家可以把它理解为，芯片制造的灵魂画笔，它能像感光胶片那样，通过曝光，把电路图精准的画在硅片上。再通过蚀刻，变成我们看到的，芯片里面的电路。越先进的芯片，线条越细，对光刻胶的要求也就越高。
在白头鹰对我们实施芯片封锁的阵营里，有一个非常重要的帮手，那就是隔壁的小日子。因为全球的光刻胶，基本上就是被他们的企业垄断的，像什么信越化学、JSR这些公司，霸占了全球70%以上的市场，尤其是高端的极紫外光刻胶，也就是euv光刻胶，全世界能造的出来的，就那么三家企业，有两家都在小日子手里，他们不仅卖的贵，还动不动就搞断供。咱们之前想买他7nm以下工艺的光刻胶，无论给多少钱，他就是不卖，直接说技术管制不能卖给我们。这得有多憋屈。就在这个节骨眼上，咱们清华大学许华平教授的团队，直接破了这个死局，他们研制出了一款光刻胶，不仅能够满足7nm以下的先进制程要求。还绕开了美日企业，几十年积累专利壁垒。真正实现了从0~1的自主可控。日本企业凭借光刻胶的专利优势，任意拿捏别人的历史结束了。很长一段时间里，光刻胶在他们手里，就像我们的稀土一样。非常的集中。一旦断供，咱们的整个芯片产业链条就得停摆，2021年的时候，日本就对韩国搞过限制光刻胶出口，直接就让三星、SK海力士的工厂停摆了。后来是是请大老美出面来调停，才搞定此事。
这一次，咱们不仅把euv光刻胶给造出来了，而且造的更好。在分辨率上比国外同类产品提升了15%，在高温下的稳定性也更出色。这可不是小进步，要知道在7nm的制式里面，电路的宽度比头发丝还细1万倍，任何一点性能的提升，都可能决定芯片的质量。为了突破这个技术，许华平团队整整花了8年的时间，从分子结构的设计开始，一点一点的摸索全新的合成路径，完全绕开了国外的专利保护，用全新的化学配方，实现了同样的功能。这种原创性的突破，比单纯的仿制难了上万倍。但一旦成功。就掌握了完全的主动权，甚可以颠覆整个行业。我们普通人可能感受不到，光刻胶的重要性，但是想想咱们的手机芯片，汽车芯片五g基站芯片每一样都离不开它，如果这么重要的原材料还要受制于别人，那么我们要打造制造业强国，就是一个空中楼阁，虽然从实验室到量产，还有一段路要走，但是这个突破已经让全球芯片产业链，开始重新评估咱们中国的实力了。最近日本的JSR公司宣布，要在中国建厂，明眼人一看就知道，这就是要近距离来观察咱们的技术，在以前这是根本不可能的，在这里，我们必须要感谢许华平教授团队。他们每天要在实验室做上百次试验，失败是家常便饭。一个参数不对，就要重来，有一次因为一个关键参数不对，差点把半年的成果都付诸东流了。他们就是凭借着这股，啃硬骨头的劲儿，把卡脖子的压力变成了创新的动力。最终实现了突破。改写了咱们在全球芯片领域的竞争格局。感谢你听到了这里，关注黑叔茶馆，每日为你解读科技前沿热点事件。
