联发科称其首款2纳米系统级芯片已完成流片,性能提升15%
根据台积电官方提供的数据,相较于其 N3E(3nm 增强版)工艺,N2 工艺预计能在同等功耗下带来 10% 至 15% 的性能提升,或在同等性能下降低 25% 至 30% 的功耗,同时逻辑密度和整体芯片密度也将有显著提高。
联发科称其首款2纳米系统级芯片已完成流片,性能提升15%
根据台积电官方提供的数据,相较于其 N3E(3nm 增强版)工艺,N2 工艺预计能在同等功耗下带来 10% 至 15% 的性能提升,或在同等性能下降低 25% 至 30% 的功耗,同时逻辑密度和整体芯片密度也将有显著提高。
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