上海光机所绕过二氧化碳激光,近期成功开发出LPP-EUV光源,波长仅13

小斌斌说科技 2025-08-11 21:13:36

上海光机所绕过二氧化碳激光,近期成功开发出 LPP - EUV 光源,波长仅13.5纳米,已经达到国际领先水平!光刻机的核心技术主要集中在极紫外光( EUV )、高精度光学系统和纳米级位移定位校准技术。波长13.5纳米的极紫外光,是制造5nm以下芯片的关键,也就是它能够在硅片上刻下更细的沟纹。

0 阅读:131

猜你喜欢

小斌斌说科技

小斌斌说科技

欢迎大家给我点赞关注