上海光刻机真的是国产之光！2025年7月，上海微电子传来硬消息，从90nm到7nm的关键专利在推进。28nm的DUV光刻机实测良率达82%，固态光源技术大幅压低成本。 过去二十年，国内在光刻机研发投入近200亿，实现了从90纳米到28纳米的跨越。中芯国际、华虹等已开始用国产设备进行芯片生产和验证。 上海微电子能成功，离不开产业链联动。虽然目前多重曝光工序多、成本高，手机芯片暂难适用，但在汽车、工控芯片领域能大展拳脚，先占据中端市场，未来冲击高端，很是让人期待！
估值6000亿的上海微电子，其最新的光刻机已经走到哪一步了？上海微电子自主研发的
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![国产自主研发自可控的：3nm国产光刻机已经开始小批量量产了，[滑稽笑][笑而不](http://image.uczzd.cn/4666125226314651674.jpg?id=0)
